金属/high-k絶縁膜構造MOSFETの閾値電圧ばらつきと金属の結晶性制御によるその低減
金属/high-k絶縁膜構造MOSFETの閾値電圧ばらつきと金属の結晶性制御によるその低減
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金属/高k绝缘膜结构MOSFET的阈值电压变化及其通过控制金属结晶度的降低
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
山田啓作
中科院分区:
文献类型:
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作者:
大毛利健治;松木武雄;石川大;諸岡哲;網中敏夫;杉田義博;知京豊裕;白石賢二;奈良安雄;山田啓作