Dopant Incorporation at Two Crystal Growth Interfaces in Vapor-Liquid-Solid Process of Metal Oxide Nanowires
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金属氧化物纳米线气-液-固过程中两个晶体生长界面的掺杂剂掺入
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
G. Zhang and T. Yanagida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Z. Zhu;K. Nagashima;T. Takahashi;M. Kanai;H. Anzai;G. Zhang and T. Yanagida
