Process Monitoring using Silicon Stable Isotopes as Markers
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使用硅稳定同位素作为标记进行过程监控
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.M.Itoh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐竹正延;他;宮本聡;Todd Tilma;齊藤志郎;Y.Yamamoto;Simon Devitt;S.Clark;H.Nakano;A.Trisetyarso;K.Kakuyanagi;M.D.Fraser;N.Y.Kim;Y.Yamamoto;T.Byrnes;K.De Greve;S.Clark;Y.Yamamoto;S.Clark;M.R.Rahman;W.Akhta;H.Tezuka;石川豊史;K.M.Itoh
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3.1
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通讯作者：
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DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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作者：
Kevin B. Lunde;V. Resh;Pieter T. J. Johnson
通讯作者：
Pieter T. J. Johnson
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作者：
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通讯作者：
Helgen, Kristofer M.
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通讯作者：
Wells, R. S.
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