Koji TSUKAMOTO: "Morphology Evolution of SiO_2 Films Deposited by Tetraethylorthosilicate/O_3 Atmospheric-pressure Chemical Vapor Deposition on Thermal SiO_2." Jpn.J.Appl.Phy.Part 2. 38 (1A/B). L68-L70 (1999)
Koji TSUKAMOTO: "Morphology Evolution of SiO_2 Films Deposited by Tetraethylorthosilicate/O_3 Atmospheric-pressure Chemical Vapor Deposition on Thermal SiO_2." Jpn.J.Appl.Phy.Part 2. 38 (1A/B). L68-L70 (1999)
复制标题
Koji Tsukamoto：“热 SiO_2 上原硅酸四乙酯/O_3 大气压化学气相沉积沉积 SiO_2 薄膜的形态演化。”
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
