Comparison of organic and hydride group V precursors in terms of surface kinetics in wide-gap selective area metalorganic vapor phase epitaxy
Comparison of organic and hydride group V precursors in terms of surface kinetics in wide-gap selective area metalorganic vapor phase epitaxy
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有机和氢化物 V 族前驱体在宽禁带选择性区域金属有机气相外延中表面动力学的比较
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Ho-Jin Oh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D.Kim;H.Lee;Weerachai Asawamethapant;片桐祥雅;Xueliang Song;Mitsuru Takenaka;Daisuke Miyashita;Weerachai Asawamethapant;Ho-Jin Oh;Weerachai Asawamethapant;Nutchai Sroymadee;Nobuo Haneji;Chang-Zheng Sun;Hwa Sun Park;Tomoyoshi Ide;Mitsuru Takenaka;Hideki Yokoi;Foo Cheong Yit;Eric Gouardes;Ho-Jin Oh;Ho-Jin Oh
