Influence of sputtering parameters on crystallinity and crystal orientation of AlN layers deposited by reactive sputtering
Influence of sputtering parameters on crystallinity and crystal orientation of AlN layers deposited by reactive sputtering
复制标题
溅射参数对反应溅射沉积 AlN 层结晶度和晶体取向的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Z. Vashaei
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Lee;S K;Z. Vashaei
