トポロジカル結晶絶縁体 SnTe 薄膜におけるヨウ素ドーピングによるキャリア密度制御
トポロジカル結晶絶縁体 SnTe 薄膜におけるヨウ素ドーピングによるキャリア密度制御
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拓扑晶体绝缘体 SnTe 薄膜中碘掺杂控制载流子密度
DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
黒田眞司
中科院分区:
文献类型:
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作者:
藤澤和輝;山口智也;秋山了太;黒田眞司