K. Teshima, Y. Inoue, H. Sugimura, O. Takai: "Reduction of carbon impurities in silicon oxide films prepared by RF plasma-enhanced CVD"Thin Solid Films. 390. 88-92 (2001)
K. Teshima, Y. Inoue, H. Sugimura, O. Takai: "Reduction of carbon impurities in silicon oxide films prepared by RF plasma-enhanced CVD"Thin Solid Films. 390. 88-92 (2001)
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K. Teshima、Y. Inoue、H. Sugimura、O. Takai：“通过射频等离子体增强 CVD 制备的氧化硅薄膜中碳杂质的减少”固体薄膜。
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