N.Terada: "Effect of Silicon Wafer In-situ Cleaning on the Chemical Structureof Ultrathin Silicon Oxide Film" Japanese Journal of Applied Physics. 30. 3584-3589 (1991)
N.Terada: "Effect of Silicon Wafer In-situ Cleaning on the Chemical Structureof Ultrathin Silicon Oxide Film" Japanese Journal of Applied Physics. 30. 3584-3589 (1991)
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N.Terada：“硅片原位清洗对超薄氧化硅薄膜化学结构的影响”日本应用物理学杂志。
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