M.Ishida: "Initial reaction process of aluminum film deposition on Si by organometal gas source." J.J.Appl.Phys.
M.Ishida: "Initial reaction process of aluminum film deposition on Si by organometal gas source." J.J.Appl.Phys.
复制标题
M.Ishida：“有机金属气源在硅上沉积铝膜的初始反应过程。”
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
