Computational fluid dynamics modeling of a new high-pressure chemical vapor deposition reactor design
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DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2021.126155
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发表时间：
2021-04
影响因子：
1.8
通讯作者：
P. Yousefian;Siddha Pimputkar
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Yousefian;Siddha Pimputkar
