Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering with negative pulse voltage
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负脉冲电压反应Ar/CH4高功率脉冲磁控溅射制备氢化类金刚石碳薄膜
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Kimura,Hikaru Kamata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鎌田 光速;木村 高志;中尾 節男;東 欣吾;原田 敏和，七森 公碩，梅上 大勝，山本 真義;Takashi Kimura,Hikaru Kamata
