電子デバイス用コバルトシリサイド薄膜の結晶成長の理解と制御
電子デバイス用コバルトシリサイド薄膜の結晶成長の理解と制御
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了解和控制电子器件用硅化钴薄膜的晶体生长
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山口由岐夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
辻由樹絵;辻佳子;野田優;山口由岐夫
