RF microplasma et : Application to the rapid recrystallization of amorphous silicon
RF microplasma et : Application to the rapid recrystallization of amorphous silicon
复制标题
RF微等离子体等：在非晶硅快速再结晶中的应用
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Sakurai;T.Kobayashi;Y.Hasegawa;H.Shirai
