High-resolution sidewall observation and LER measurement of a photoresist pattern by a metrological tilting-AFM
High-resolution sidewall observation and LER measurement of a photoresist pattern by a metrological tilting-AFM
复制标题
通过计量倾斜 AFM 进行光刻胶图案的高分辨率侧壁观察和 LER 测量
DOI：
--
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Gonda Satoshi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kizu Ryosuke;Misumi Ichiko;Hirai Akiko;Gonda Satoshi
