宇佐美 興一: "低エネルギ-酸素イオンビ-ム源を用いた薄いSi酸化膜の形成" 真空協会誌「真空」.
宇佐美 興一: "低エネルギ-酸素イオンビ-ム源を用いた薄いSi酸化膜の形成" 真空協会誌「真空」.
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Koichi Usami：“使用低能氧离子束源形成薄硅氧化膜”真空协会期刊“真空”。
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