DTCL-MPCVD装置を用いたSi基板上のカーボンナノチューブにおける間隔の制御
DTCL-MPCVD装置を用いたSi基板上のカーボンナノチューブにおける間隔の制御
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使用 DTCL-MPCVD 设备控制硅衬底上碳纳米管的间距
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宇高 他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
utaka;et al.;Utaka et al.;宇高 他;宇高 他
