Mask defect transfer in Si anisotropoc wet etching
Mask defect transfer in Si anisotropoc wet etching
复制标题
Si各向异性湿法刻蚀中掩模缺陷转移
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Kawai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Junji Miyazaki;Akira Kawai
