Impact of the gas flow ratio on the physical properties of GaN grown by vertical flow metalorganic chemical vapour deposition
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DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2010.04.039
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发表时间：
2010-07
影响因子：
1.8
通讯作者：
Tzu-Tao Yuan;P. Kuei;L. Hsieh;Tatyana Li;Wen-Jen Lin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tzu-Tao Yuan;P. Kuei;L. Hsieh;Tatyana Li;Wen-Jen Lin
