大気圧VHFプラズマによるシリコン表面パッシベーションプロセスの開発
大気圧VHFプラズマによるシリコン表面パッシベーションプロセスの開発
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利用常压VHF等离子体开发硅表面钝化工艺
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安武潔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
三宮佑太;後藤一磨;卓澤騰;金谷優樹;山田高寛;大参宏昌;垣内弘章;安武潔
