Application of x-ray mask fabrication technologies to high resolution, large diameter Ta Fresnel zone plates

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X射线掩模制造技术在高分辨率、大直径Ta菲涅尔波带片中的应用

DOI:
10.1016/s0167-9317(96)00202-x
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发表时间:
1997
影响因子:
2.3
通讯作者:
T. Kagoshima
T. Kagoshima
中科院分区:
工程技术3区
文献类型:
--
作者:
A. Ozawa;T. Tamamura;T. Ishii;H. Yoshihara;T. Kagoshima

文献摘要

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