Metal assisted chemical etchingによるシリコンナノワイヤアレイの作製
Metal assisted chemical etchingによるシリコンナノワイヤアレイの作製
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金属辅助化学蚀刻法制造硅纳米线阵列
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
加藤慎也,渡邊裕也,黒川康良,山田明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hamamoto;S. K. Kawamoto;T. Komatsu.;Yukihisa Nakao;加藤慎也,渡邊裕也,黒川康良,山田明
前言《电化学学报》克拉科夫特刊
影响因子：
6.6
作者：
A. Kowal;M. Skompska;A. Wiȩckowski
通讯作者：
A. Wiȩckowski