X.H.Wang: "High-rate deposition of nanostructured SiC films by thermal plasma PVD"Science and Technology of Advanced Materials. 3. 313-317 (2002)
X.H.Wang: "High-rate deposition of nanostructured SiC films by thermal plasma PVD"Science and Technology of Advanced Materials. 3. 313-317 (2002)
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X.H.Wang：“热等离子体PVD高速沉积纳米结构SiC薄膜”先进材料科学与技术。
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