K.S.Kim,M.Koyanagi,et.al: "Ultra-Shallow Junction Formation by Boron Diffusion in UHV-CVD apparatus" Extended Abstracts The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 印刷中. (1999)
K.S.Kim,M.Koyanagi,et.al: "Ultra-Shallow Junction Formation by Boron Diffusion in UHV-CVD apparatus" Extended Abstracts The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 印刷中. (1999)
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K.S.Kim、M.Koyanagi 等人：“UHV-CVD 装置中硼扩散的超浅结形成”扩展摘要日本应用物理学会及相关学会出版（1999 年）。
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