On the mechanisms of diode plasma nitriding in N2–H2 mixtures under DC-pulsed substrate biasing
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DOI：
10.1016/s0257-8972(03)00656-x
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发表时间：
2003-09
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Walkowicz
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Walkowicz
