Toshihiro Shimada, Michihiro Mochida and Atsushi Koma: "Characterizing reactions to fabricate thin films of charge transfer complexes by synchrotoron photoelectron spctroscopy:A case study of DCNQI-Cu" Applied Surface Science. 113, 114. 322-325 (1997)
Toshihiro Shimada, Michihiro Mochida and Atsushi Koma: "Characterizing reactions to fabricate thin films of charge transfer complexes by synchrotoron photoelectron spctroscopy:A case study of DCNQI-Cu" Applied Surface Science. 113, 114. 322-325 (1997)
复制标题
Toshihiro Shimada、Michihiro Mochida 和 Atsushi Koma：“通过同步旋转光电子能谱表征制造电荷转移复合物薄膜的反应：DCNQI-Cu 的案例研究”应用表面科学。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
