W.Shindo: "Low Temperature Silicon Epitaxy Technology Using a Low-Energy Ion Bombardment Process" Proc.International Conference on Advanced Microelectronic Devices and Processing,March 3-5. 441-444 (1994)
W.Shindo: "Low Temperature Silicon Epitaxy Technology Using a Low-Energy Ion Bombardment Process" Proc.International Conference on Advanced Microelectronic Devices and Processing,March 3-5. 441-444 (1994)
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W.Shindo：“使用低能离子轰击工艺的低温硅外延技术”Proc.国际先进微电子器件和加工会议，3 月 3-5 日。
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