Etching of fused silica and glass with excimer laser at 351 nm
Etching of fused silica and glass with excimer laser at 351 nm
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使用 351 nm 准分子激光蚀刻熔融石英和玻璃
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Zimmer
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Zimmer
