Virtual Substrate Technology for Ge1-XSnX Heteroepitaxy on Si Substrates

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硅衬底上 Ge1-XSnX 异质外延的虚拟衬底技术

DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
J. Schulze
J. Schulze
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
K. Kostecki;M. Oehme;R. Koerner;D. Widmann;M. Gollhofer;S. Bechler;G. Mussler;D. Buca;E. Kasper;J. Schulze

文献摘要

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