大気圧近傍でのプラズマ化学輸送を利用したシリコン材料プロセス
大気圧近傍でのプラズマ化学輸送を利用したシリコン材料プロセス
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使用接近大气压的等离子体化学传输的硅材料工艺
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大参宏昌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Sunada;T.Harayama;K.Arai;K.Yoshimura;P.Davis;K.Tsuzuki;A.Uchida;大参宏昌
