プラズマCVD 法で製膜したシリカ膜の膜応力
プラズマCVD 法で製膜したシリカ膜の膜応力
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等离子CVD法形成的二氧化硅膜的膜应力
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
脇坂知樹･竹田依加･河瀬元明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akimitsu Miyaji;Teppei Miyoshi;Ken Motokura;Toshihide Bab;宮地 輝光・テキ ブンカ・馬場 俊秀;宮地輝光,中川聡矢,本倉 健,馬場俊秀;宮地輝光・本倉健・馬場俊秀;宮地輝光・馬場俊秀;脇坂知樹･竹田依加･河瀬元明
