Effects of deposition temperature and post-annealing on structure and electrical properties in (La0.5Sr0.5)CoO3 films grown on silicon substrate
Effects of deposition temperature and post-annealing on structure and electrical properties in (La0.5Sr0.5)CoO3 films grown on silicon substrate
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沉积温度和后退火对硅衬底上生长的(La0.5Sr0.5)CoO3薄膜的结构和电性能的影响
DOI：
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发表时间：
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影响因子：
2.7
通讯作者：
Li, Y. W.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hu, Z. G.;Chu, J. H.;Yang, P. X.;Yue, F. Y.;Zhou, W. Z.;Li, Y. W.
