コンタクトレス光電気化学エッチングによるリセスゲートAlGaN/GaN HEMT の作製
コンタクトレス光電気化学エッチングによるリセスゲートAlGaN/GaN HEMT の作製
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非接触光电化学刻蚀制备凹栅AlGaN/GaN HEMT
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渡久地政周，三輪和希，堀切文正，福原昇，成田好伸，吉田丈洋，佐藤威友
中科院分区：
文献类型：
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作者：
阪東泰河;森 翔平;荒川元孝;大西詠子;山内正憲;金井 浩;渡久地政周，三輪和希，堀切文正，福原昇，成田好伸，吉田丈洋，佐藤威友
