T.Ishikawa: "Effect of Hydrogen Implantation on the Electrical Properties of Cu-N Thin Films"Proceedings of the 5th Korea-Japan Joint Sumposium '99 on Hydrogen Energy. 174-180 (1999)
T.Ishikawa: "Effect of Hydrogen Implantation on the Electrical Properties of Cu-N Thin Films"Proceedings of the 5th Korea-Japan Joint Sumposium '99 on Hydrogen Energy. 174-180 (1999)
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T.Ishikawa：“氢注入对 Cu-N 薄膜电性能的影响”第五届韩日氢能联合研讨会 99 论文集。
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