触媒反応生成高エネルギー窒素系プリカーサを用いたGaN膜の成長
触媒反応生成高エネルギー窒素系プリカーサを用いたGaN膜の成長
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利用催化反应产生的高能氮基前驱体生长 GaN 薄膜
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安井寛治
中科院分区：
文献类型：
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作者：
谷川世大;中澤勇太;西山智哉;田村和之;安井寛治
