X-ray reflectivity studies of very thin films of silicon oxide and silicon oxide–silicon nitride stacked structures
X-ray reflectivity studies of very thin films of silicon oxide and silicon oxide–silicon nitride stacked structures
复制标题
氧化硅和氧化硅-氮化硅叠层结构极薄薄膜的 X 射线反射率研究
DOI：
--
复制
发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
L. Lozzi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S. Santucci;A. Cecilia;A. DiGiacomo;R. Phani;L. Lozzi
