OXYGEN-CHEMISORPTION AND OXIDE FORMATION ON SI(111) AND SI(100) SURFACES

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DOI：
10.1116/1.572199
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发表时间：
1983-01-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
--
通讯作者：
HIMPSEL, FJ
HIMPSEL, FJ
中科院分区：
其他
文献类型：
--
作者：
HOLLINGER, G;HIMPSEL, FJ

文献摘要

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