Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography
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复制标题
用于极紫外光刻的分子抗蚀剂材料
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and T. Kozawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Yamamoto;H. Kudo;and T. Kozawa
