Fabrication of Si nanowire by using sub-Torr He plasma sputtering process
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采用亚托氦等离子体溅射工艺制备硅纳米线
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Kiga
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Uchida;K. Masumoto;M. Sakakibara;R. Hanai;T. Yamada;M. Kiga
