T.Hoshino, M.Hata, S.Neya, Y.Nishioka, T.Watanabe, K.Tatsumura, I.Ohdomari: "Diffusion of Molecular and Atomic Oxygen in Silicon Oxide"Japanese Journal of Applied Physics. 42. 3560-3565 (2003)
T.Hoshino, M.Hata, S.Neya, Y.Nishioka, T.Watanabe, K.Tatsumura, I.Ohdomari: "Diffusion of Molecular and Atomic Oxygen in Silicon Oxide"Japanese Journal of Applied Physics. 42. 3560-3565 (2003)
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T.Hoshino、M.Hata、S.Neya、Y.Nishioka、T.Watanabe、K.Tatsumura、I.Ohdomari：“氧化硅中分子和原子氧的扩散”日本应用物理学杂志。
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