大気圧プラズマ酸化による太陽電池用Si表面パッシベーション技術の開発―大気圧プラズマ酸化によるSiO2の低温高速形成―
大気圧プラズマ酸化による太陽電池用Si表面パッシベーション技術の開発―大気圧プラズマ酸化によるSiO2の低温高速形成―
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常压等离子体氧化太阳能电池硅表面钝化技术的开发 - 常压等离子体氧化低温高速形成SiO2 -
DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
金谷優樹(安武潔)
中科院分区:
文献类型:
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作者:
S.Machida;など;金谷優樹(安武潔)