ANALYSIS OF RE-MELTING PROCESS OF SILICON GROWN BY TRANSVERSE MAGNETIC FIELD APPLIED CZ METHOD
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横向磁场直拉法生长硅重熔过程分析
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Kakimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
矢野力三;津村公平;廣瀬陽代;小柳正男;柏谷裕美;浅野泰寛;笹川崇男;柏谷聡;K. Kakimoto
