Fabrication of flat silicon surface using eco-friendly electrochemical etching process on cathode
Fabrication of flat silicon surface using eco-friendly electrochemical etching process on cathode
复制标题
采用阴极电化学蚀刻工艺制备平坦硅表面
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Ichii and H. Goto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.;Suzuki;H.;Goto;K.;Hirose;Y. Ichii and H. Goto
