佐々木公洋、中田圭一、畑朋延: "IBSによるSiGeエピタキシャル成長の基礎特性" 信学技報. CPM96-110. 43-48 (1996)
佐々木公洋、中田圭一、畑朋延: "IBSによるSiGeエピタキシャル成長の基礎特性" 信学技報. CPM96-110. 43-48 (1996)
复制标题
Kimihiro Sasaki、Keiichi Nakata 和 Tomonobu Hata:“IBS 的 SiGe 外延生长的基本特征”CPM96-110 (1996)。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: