Simple method for measuring acid generation quantum efficiency at 193 nm
Simple method for measuring acid generation quantum efficiency at 193 nm
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测量 193 nm 产酸量子效率的简单方法
DOI：
10.1117/12.350274
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Robert F. Blacksmith
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Szmanda;R. Kavanagh;J. F. Bohland;J. Cameron;P. Trefonas;Robert F. Blacksmith
测量Dill C参数的传统方法涉及监测作为曝光的函数的抗蚀剂的吸光度。在化学放大抗蚀剂中，随着曝光的吸光度变化很小，并且通常与产生的光酸的量几乎没有相关性。
Traditional methods of measuring the Dill C Parameter involve monitoring the absorbance of a resist as a function of exposure. In chemically amplified resist, absorbance changes with exposure are small and frequently have little correlation to the amount of photoacid generated.