フッ硝酸を用いた酸化グラフェンアシストシリコンエッチング
フッ硝酸を用いた酸化グラフェンアシストシリコンエッチング
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使用氟硝酸的氧化石墨烯辅助硅蚀刻
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
窪田 航，島川 紘，宇都宮 徹，一井 崇，杉村 博之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
上田恭介;上田隆統志;成島尚之;真部研吾;窪田 航，島川 紘，宇都宮 徹，一井 崇，杉村 博之
