Random adatom heights in GeSi(111)-5 × 5 surfaces
Random adatom heights in GeSi(111)-5 × 5 surfaces
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GeSi(111)-5 × 5 表面中的随机吸附原子高度
DOI：
10.1016/0039-6028(95)01261-3
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发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
T. Fukuda
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Fukuda
影响因子：
8.6
作者：
G. Binnig;H. Rohrer;C. Gerber;E. Weibel
通讯作者：
G. Binnig;H. Rohrer;C. Gerber;E. Weibel