化学気相析出法によるHfO2-Lu2Hf2O7-Lu2O3系膜の合成
化学気相析出法によるHfO2-Lu2Hf2O7-Lu2O3系膜の合成
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化学气相沉积法合成HfO2-Lu2Hf2O7-Lu2O3基薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
伊藤暁彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
任 宗涵;伊藤暁彦
