Toshio Goto: "Radical Behavior in Fluorocarbon Plasma and Control of Silicon Oxide Etching by Injection of Radicals" Jpn.J.Appl.Phys.35. 6521-6527 (1996)
Toshio Goto: "Radical Behavior in Fluorocarbon Plasma and Control of Silicon Oxide Etching by Injection of Radicals" Jpn.J.Appl.Phys.35. 6521-6527 (1996)
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Toshio Goto：“氟碳等离子体中的自由基行为以及通过自由基注入控制氧化硅蚀刻”Jpn.J.Appl.Phys.35。
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