Impact of pulse duration in high power impulse magnetron sputtering on the low-temperature growth of wurtzite phase (Ti,Al)N films with high hardness
Impact of pulse duration in high power impulse magnetron sputtering on the low-temperature growth of wurtzite phase (Ti,Al)N films with high hardness
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DOI：
10.1016/j.tsf.2014.11.076
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发表时间：
2015-04
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Tetsuhide Shimizu;Y. Teranishi;K. Morikawa;H. Komiya;Tomotaro Watanabe;H. Nagasaka;M. Yang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tetsuhide Shimizu;Y. Teranishi;K. Morikawa;H. Komiya;Tomotaro Watanabe;H. Nagasaka;M. Yang
